什么是气硅
HDK 气相法二氧化硅是一种高度分散的、无定形并且纯度极高的二氧化硅,其制备方法是在氢氧气相火焰下,由四氯化硅高温水解而得,其原生粒子是一种内部没有孔洞的球状粒子。原生粒子在火焰内相互作用并聚集,形成了聚集体。原生粒子的平均粒径从7nm~40nm不等,相应地比表面积为150~400m2/g。硅氧烷和硅烷醇基团位于HDK 气相法二氧化硅微粒的表面。后者的存在使得未经处理的HDK 气相法二氧化硅有亲水性,图1中表示了亲水性HDK 气相法二氧化硅的表面基团。
图1.亲水型HDK 中表面硅羟基的几种存在方式
疏水气硅
通过硅烷醇基团与合适的化合物反应,可对HDK 气相法二氧化硅进行表面改性。亲水性和疏水性的HDK 气相法二氧化硅已经在许多领域得以成功应用。气硅在客户产品中能起到以下作用:
• 补强填料
• 增稠剂和触变剂
• 防沉剂
• 自由流动助剂
H13L/H15/H20—聚二甲基硅氧烷改性后
H17/H18—聚二甲基二氯硅烷改性后
H2000—六甲基二硅氮烷改性后
图2-4.HDK表面改性后几款不同的表面疏水基团的存在形式
气硅该如何选型
1.通过体系极性选择
极性差异能给气硅带来更好的分散效果,从而使气硅的性能得到充分的体现;
型号 |
比表(改性类型)/m2/g |
特点 |
|
亲水 |
N20ST |
200 |
性价比高,降本推荐 |
N20 |
200 |
经典款 |
|
T30 |
300 |
高比表 |
|
T40 |
400 |
最高比表 |
|
V15 |
150 |
易分散 |
|
疏水 |
H18 |
120 (聚二甲基二氯硅烷) |
疏水度高,高性能推荐 |
H20 |
170 (聚二甲基硅氧烷) |
经典款疏水,高性价比 |
|
H15 |
120 (聚二甲基硅氧烷) |
低比表易分散 |
|
H13L |
90 (聚二甲基硅氧烷) |
消泡剂主推产品 |
|
H2000 |
200 (六甲基二硅氮烷) |
补强最佳 |
|
H17 |
110 (聚二甲基二氯硅烷) |
最佳分散性 |
如果您对以上产品感兴趣,请联系我们,021-50313752,或我们对应的销售人员,谢谢!
请输入搜索关键字
确定